Photoresist materials and processes

Bibliographic Details
Main Author: DeForest
Format: Book
Language:English
Published: New York McGraw-Hill [1975]
Subjects:
LEADER 00615cam a2200205 a 4500
001 0000128351
005 20110810090000.0
040 |a mod 
041 |a eng 
020 0 0 |a 0070162301 
090 0 0 |a 621.381/73  |b DEF 
100 1 0 |a DeForest  |h William S. 
245 1 0 |a Photoresist  |b materials and processes  |c W. S. DeForest. 
260 0 0 |a New York  |b McGraw-Hill  |c [1975] 
300 |a xi, 269 p.  |b ill.  |c 24 cm. 
504 0 0 |a Includes bibliographical references and index. 
650 0 0 |a Photoresists. 
650 0 0 |a Integrated circuits. 
650 0 0 |a Printed circuits. 
999 |a B002551  |b STRIDE  |d BOOKS  |e Umum  |f STRIDE  |j AVAILABLE  |q GOOD CONDITION